氮化硼陶瓷是什么材料,氮化硼陶瓷工艺

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氮化硼陶瓷是通过热压制成的，该过程使用温度高达2000°C（3,632°F）的高压尤道氮化硼粉末烧结成一个大的紧凑型坯，即方坯，这些氮化硼方坯易于加工。并被精加工成复杂的形状和光滑的表面，而无需生坯材料的烧结，研磨和抛光，其易于加工的特性使原型设计，设计变更和认证周期在许多高级工程领域变得更加轻松快捷。BN具有许多先进陶瓷所共有的特性，因此在等离子环境中具有独特的性能，因为它具有抗溅射性能，即使在强电磁场中也不会形成二次离子，抗溅射性能有助于延长组件的使用寿命，低的二次离子生成有助于维持等离子体环境的完整性。
它已在各种薄膜涂覆工艺中用作先进的绝缘体，例如等离子体增强物理气相沉积（PVD）；氮化硼陶瓷也用于改善轨道卫星上霍尔效应推进器的性能和使用寿命。
氮化硼陶瓷用于物理气相沉积
物理气相沉积是指用于各种材料的表面工程的各种真空薄膜涂覆方法，PVD涂覆方法是在靶表面生成并沉积在衬底表面上的几种方法之一，包括溅射沉积。涂覆方法通常用于制造光电器件，真空和航空航天精密部件等。
溅射是一种独特的过程，通过连续的等离子轰击将颗粒从目标材料中强行喷出，氮化硼陶瓷被广泛用于将溅射腔室中的等离子弧约束到目标材料上，并防止在此过程中整体零件的腐蚀室。
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